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小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD

產品簡介

小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD是鄭州科探儀器設備有限公司生產,臺式設計、軟件自動操控、高性價比,非常適合實驗室科研使用。 通過加熱蒸發(fā)某種物質使其沉積在固體表面。軟件自動操控、工藝儲存,高性價比,非常適合實驗室科研使用。稱為熱蒸發(fā)鍍膜,熱蒸發(fā)鍍膜技術是歷史最悠久的PVD鍍膜技術之一。熱蒸發(fā)鍍膜機一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等。

產品型號:
更新時間:2024-03-27
廠商性質:生產廠家
訪問量:5720
詳細介紹在線留言
品牌鄭科探產地類別國產
應用領域化工,電子

一、技術原理:  

(1)小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD,臺式設計、軟件自動操控、高性價比,非常適合實驗室科研使用。  

(2)通過加熱蒸發(fā)某種物質使其沉積在固體表面,稱為熱蒸發(fā)鍍膜,熱蒸發(fā)鍍膜技術是歷史最悠久的PVD鍍膜技術之一。熱蒸發(fā)鍍膜機一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。以下為蒸發(fā)鍍膜設備的示意圖。  


二、真空度越高越不易氧化越接近金屬本色:  

★玻璃鐘罩真空腔室,最直觀的蒸發(fā)狀態(tài)和薄膜沉積現象觀察;  

★復合分子泵和直聯旋片泵,大抽速準無油真空系統(分子泵抽速≥400L/S);

★兩組水冷式蒸發(fā)電極,可長時間穩(wěn)定工作,兼容金屬材料與有機材料的蒸發(fā)源設計;

★專業(yè)真空蒸發(fā)電源,數顯工作電流和電壓,恒流輸出;  

★可定制一體化高精度刻蝕掩膜板;  

★襯底可選擇加熱或水冷,源基距≥300mm;  

★可調速旋轉靶臺使薄膜更均勻  

★可沉積金屬(Au,Ag,Al,Ca,Cu,Mg,Fe,Cr,Ni等)、非金屬、化合物(MoO3,LiF等)及有機物材料,可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜;  

★7寸顯示器定時定點調節(jié)電流,達到控制功率效果;  

★具有記憶儲存功能,直接調出已儲存的數據進行鍍膜達到同樣工藝效果;  

★配置了靶臺擋板,可手動調節(jié)或自動調節(jié)擋板,及時遮擋樣品,保證樣品效果


三、技術支持&服務:  

1.技術支持:在合同簽訂之前,我們的專業(yè)工程師會在充分了解客戶需求的前提下,為客戶做出*的選型和方案設計,使客戶充分了解并理解產品技術指標、性能用途、使用場合、安全注意事項等,以幫助客戶做出正確的選擇。

2.安裝與培訓:在產品使用前,我們會派專業(yè)工程師為您提供現場技術支持、培訓及演示服務。  

3.產品質保:我們對產品提供12個月的質保期,在質保期內發(fā)生設備或配件損壞由公司負責賠償或免費維修。(耗材和易損件除外)  

4.終身維護:我們對提供的產品提供終身服務,對于超過質保期限的維修、維護僅收取材料費,免除一切人工費用。

       image.png  

以下是不同真空度 不同鍍膜時間鍍銅樣品圖

637858771737832260197.png   原樣品沒有鍍膜                       637858771732996198687.png  115A 100秒 機械泵

637858771732840196319.png115A 100秒 分子泵抽12分鐘    637858771732684194803.png  115A 120秒 分子泵抽20分鐘

637844882350281266506.jpg

四、小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD技術資料:

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

加熱方式

數字式功率調整器

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

最大功率

1200W

最大輸出電壓電流

電壓≤12V  電流≤120A

真空度

機械泵 ≤5Pa5分鐘)   分子泵≤10^-3Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm

樣品臺

可旋轉φ62  (最大可安裝φ50基底)

樣品臺轉速

8轉/分鐘

樣品蒸發(fā)源調節(jié)距離

70-140mm

蒸發(fā)溫度調節(jié)

1800

支持蒸發(fā)坩堝類型

鎢絲藍  帶坩堝鎢絲藍  鎢舟  碳繩  

預留真空接口

KF25抽氣口  KF16真空計接口  KF16放氣口 6mm卡套進氣口

可選配擴展

機械真空泵(可抽真空 5分鐘<5Pa  

數顯真空計(測量范圍大氣壓到0.1Pa

分子泵機組(可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa







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